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IWC 晶圆清洗机

取代RCA清洗,支持3-12英寸晶圆,
结合IWC生成设备,实现化学废液零排放的绿色清洗。

  • IWC 清洗设备规格: 单片式/槽式

  • 加工对象尺寸: 3/4/6/8/12 inch

  • 清洗液对应:IWC (机台内建生成设备)/ 各种药液/纯水等

  • IWC 生成设备,标准生成量: 15 L/hr(可变更规格)

设备装配

  • 上下喷嘴

    纯水、空气、IWC

  • 超音波

    流水超音波 :2个,1 MHz/400kHz

    振动体超音波:1MHz

参数规格

规格单片式槽式
型号LC-200/300-SWLC-5C1D-B
设备尺寸1400W x 1400D x 2050H5800W x 1000D x 2000H
需要设备纯水:IN0.2MPa over 5L/min C-PVC15A OUT C-PVC15A
排液:PVC-25A
排气:φ100要抽吸
电源:φ3 AC200V 60A
干空气:over 0.5MPa 8A
純水:IN 0.2MPa over 5L/min C-PVC15A OUT C-PVC15A
排液:PVC-25A
排气:φ200要抽吸
电源:φ3 AC200V 60A
干空气:φ12
处理能力4min/per wafer~冷却水:15A

内容选择

单片式槽式
晶圆尺寸3/4/6/8/12inch(需事前选择1种或多种)
清洗方式定点超音波清洗 / 线式超音波清洗刷洗 / 二流体超声波/浸渍
清洗液IWC/DIW etc.IWC / DIW / IPA etc.
夹头方式边沿夹头真空夹头

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